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Φ6英寸兼容觸摸屏式真空/工藝氣體

高速退火加熱系統(tǒng)RTP-150

RTP-150 前裝式

快速退火爐

尺寸 503 x 525 x 570 mm（寬x深x高）

重量約 80 kg

原型開發(fā)應用的理想選擇

加熱區(qū)上下設有IR（紅外線）型加熱器，最高溫度可達1000℃，并可高速升溫75K/秒。

采用氮氣吹掃法的冷卻方法，可實現(xiàn)高達190 K/min的溫降。

觸摸屏用于輪廓程序控制。

除了創(chuàng)建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您還可以保存過程數(shù)據(jù)。

它可以加熱最大尺寸為 156 x 156 毫米或 Φ150 毫米的物體。

真空工藝快速加熱爐，盡管其桌面尺寸，最高溫度可達1000℃。

兼容氮氣吹掃、氧氣吹掃、合成氣（氫氣+氮氣）吹掃等。

由于工作區(qū)域是氣體保護的，因此可用于存在污染問題的工藝或其他關鍵工藝。

加熱由頂部和底部的 24 個 IR（紅外線）加熱器進行，可實現(xiàn)準確、快速的加熱。

與合適的真空泵結(jié)合，可實現(xiàn)高達0.1 Pa (10 -3 hPa) 的真空環(huán)境。

兼容氮氣吹掃法的溫度下降

標準配備觸摸屏顯示器。通過觸摸操作輕松操作

主機上最多可注冊50個50段（行）的溫度控制程序。